盛美半导体设备今（18日）宣布推出首款KrF制程前道涂胶显影设备Ultra Lith，旨在支持半导体前段制造。该公司指出，首台设备系统已于9月交货给中国主要逻辑芯片厂客户。

盛美半导体指出，最新设备是该曝光系列的重要扩展，具有高产能、先进温控技术以及即时工艺控制和监测功能，专为成熟制程曝光应用而打造。此外，该设备主要是基于ArF制程前道涂胶显影设备平台打造，而这个平台去年底已在中国一家主要客户端完成工艺验证。

此次推出的KrF系统可均匀涂布次埃级涂层，具备先进温控技术以及与ASML曝光机匹配的关键尺寸（CD）精度础。

盛美半导体设备董事长王晖指出，KrF曝光技术仍是成熟制程零部件生产的核心制程，相信此类设备在全球半导体产出中占比庞大且持续增长。通过同时提供ArF和KrF工艺涂胶显影系统，盛美半导体正在更广泛的应用领域中，实现顺畅的芯片厂集成效率，提升制造灵活性。

盛美半导体指出，KrF工艺涂胶显影Track设备Ultra Lith采用灵活工艺模块配置，配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），并搭载54块可精确控温的热板，支持低温、中温及高温工艺处理，具备优异的热均匀性。

盛美半导体表示，该设备产能超过300片芯片/小时（WPH），并集成公司专利申请中的背面颗粒去除模块（BPRV），有效降低交叉污染风险。此外，集成的芯片级异常检测（WSOI）模块可实现即时制程偏差检测和良率异常监测，从而提高制程稳定性和生产效率。

（首图来源：科技新报）