随着人工智能（AI）浪潮带动了半导体产业的发展，投资机构对ASML产品的长期需求仍保持乐观，因为这些AI半导体普遍采用最新的半导体制造技术。虽然不少半导体制造商都延后引入新一代High-NA EUV。但是从整体来看，市场对曝光设备的需求仍处于上升趋势。
根据外媒Techpowerup报道，近日ASML表示，根据目前的订单资讯和需求，预计2027年将交付10套High-NA EUV和56套EUV曝光机。其中，英特尔和三星最近都提高了曝光机的订单量，英特尔将High-NA EUV的订购数量从1套提高到2套，EUV的订购数量从3套提高到5套，另外三星也将EUV的订购数量从原本的5套提高到7套。
值得注意的还有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV曝光机里占了20套的数量，同时也将High-NA EUV的订购数量从1套提高到2套。此外，传闻SK海力士计划在未来两年内安装好20套EUV曝光机，全部是为了HBM及先进存储解决方案所采购的。
虽然英特尔很可能是首个在量产过程中导入High-NA EUV曝光技术的半导体制造商。不过，三星和SK海力士正在迎头赶上。特别是SK海力士，以目前的产能扩张速度，预计将需要更多的厂房，以为准备安装曝光机留下足够的空间。
(首图来源：imec提供)
