全球半导体年度盛会SEMICON Taiwan 2025第二日，锐泽实业今年参展呈现环保高性能的“肘管集尘设备ECD（Elbow Capture Device）”与“粉尘捕捉器PCD（Powder Capture Device）”，总经理周谷桦表示，目前正积极与客户进行新式粉尘设备送样阶段。
周谷桦表示，这两大集尘方案，专为应对半导体制造Sub-Fab端长期存在的粉尘堆积与渠道堵塞问题而生，有望大幅提升制程良率、降低非预期停机风险，并显著优化运营成本，目前正积极与客户进行新式粉尘设备送样阶段，预计将有助于增添未来在手订单表现。
周谷桦指出，随着全球半导体芯片厂、内存等持续扩产，先进制程技术演进对于设备与服务日益严谨与规格大幅提升等趋势明确，锐泽趁势推出“肘管集尘设备ECD”，巧妙设计于Dry pump出口处，通过独特的位移式换管机制，结合集尘与清洁功能，大幅降低水电及废气处理成本。
周谷桦分享，再来是高性能的“粉尘捕捉器PCD”，主要是解决SubFab端渠道粉尘堵塞导致的无预警宕机问题，以及现有洒水式Local Scrubbe r对于先进制程中PM2.5以下微细粉尘去除效率不佳的挑战。
周谷桦认为，随着半导体制程线宽不断缩小，对微粒控制的要求日益严苛，传统的粉尘处理方式已难以满足先进制程的需求，锐泽的粉尘捕捉器采用创新的“主动式气旋分离”技术，能有效捕捉粉尘，避免其堆积于管壁，从根本上解决粉尘堵塞的难题。
预期运营，周谷桦指出，随着半导体与内存客户新厂扩建计划持续进行，锐泽仍戮力扩大气体二次配工程、气体供应主系统与Turnkey统包接案，并深化既有知名半导体芯片厂、内存厂客户业务合作，拓展面板、化工等领域接单，更积极开幕日本、新加坡与美国市场等海外布局。
（首图来源：科技新报）
