2023年末，曝光机大厂ASML向英特尔运交机首套High-NA EUV曝光机，型号为TWINSCAN EXE:5000。业界普遍认为，High-NA EUV将对先进芯片开发和下代处理器生产发挥关键作用。不过最近又有变化，各芯片代工厂都在减少依赖High-NA EUV，延后导入时间。特别是英特尔董事发言，让市场对High-NA EUV前景产生更多疑问。
Wccftech报道，近期有投资机构下调ASML目标价，从795欧元降至759欧元，代表每股获利减少约5%，因High-NA EUV市场需求放缓，同时调低ASML 2026和2027年营收预估。但ASML股票投资评级没有变仍为“买入”。
照不愿意透露姓名的英特尔董事说法，新晶体管设计如GAAFET和CFET，可降低曝光机重要性。这些设计是从四面包裹栅极，更偏用蚀刻去除多余材料，而不是增加芯片曝光时间以缩小电路尺寸。芯片生产时横向重要性日益增加，High-NA EUV重要性就没那么重要了。
长远看，人工智能（AI）浪潮带动芯片发展，投资机构对ASML产品的长期需求仍保持乐观，因芯片普遍采用最新半导体制程，市场对曝光设备的需求仍处于上升趋势。ASML 7月16日公布2025年第二季财报，届时可了解营收状况与未来营收变化，了解接下来全球曝光机市场预期。
(首图来源：ASML)
