荷兰半导体设备大厂ASML预告，2027年将交付56台Low-NA EUV（极紫外光）设备与10台High-NA EUV设备，这个出货量比先前预期还高出不少，显示市场对先进制程需求持续升温。

由于EUV曝光机的交货期通常长达一年以上，许多芯片厂都得提前几年下单。根据ASML公布的数据，目前根据现有订单与需求估算，2027年的Low-NA EUV出货量将达56台，其中：

Intel：5台

Samsung（三星）：7台

SK hynix（SK海力士）：高达20台

韩国媒体指出，SK海力士计划未来两年内部署这20台Low-NA EUV设备，主要用于HBM（高带宽内存）与其他先进存储解决方案的制造。

在High-NA EUV部分，ASML预计交付10台，每台单价约为3.8亿美元。Intel预计会将这些高端设备导入旗下14A制程节点，SK海力士则会部署2台于存储业务线。

Intel对High-NA EUV可说是“砸钱不手软”，不仅快速扩建设备数组，还在制程上取得突破：

每季芯片处理量可超过3万片

单层芯片制程步骤从原本的40道压缩至10道以内

制造周期大幅缩短

而三星在相关应用上也展现实力，有部分场景的生产周期缩短了60%。

虽然Intel在High-NA EUV上起步较早，但三星与SK海力士明显加快脚步，势要缩短差距。值得注意的是，Low-NA EUV依然是市场主力需求，根据最新消息，SK海力士接下来两年还将再买进20台Low-NA EUV设备，换句话说，他们平均每年将安装10台，并配合扩建韩国本土的大型芯片厂房。