特用化学材料厂新应材12月23日将举办上柜前业绩发布会，并将以竞价拍卖搭配公开申购方式配售初次上柜前现金增资股票，预计2025年1月中旬挂牌上柜，董事长詹文雄表示，随着2纳米将在2025下半年量产，新应材的“洗边剂”和“底部抗反射层”已打入2纳米，成为最大运营动能。
詹文雄表示，新应材成立自2003年，以面板及半导体光学组件光阻材料自主研发与量产实绩为基础，2018年积极转型投入半导体先进制程，并聚焦在良率关键的微影（Lithography）特化材料开发，主力产品为半导体先进制程光阻周边的表面改质剂（Rinse），为微影制程良率关键材料。
詹文雄指出，新应材目前已是台湾唯一在半导体微影制程，从原料合成、纯化到配方自主设计，并持续扩大量产规模的特化材料厂商，未来将持续朝纳米级微影特化材料发展，包含即将到来的2纳米，以及未来1.4纳米制程的关键材料，可有效提升先进微影制程终端应用的良率。
詹文雄分享，半导体特化材料开发及验证时间长，新应材拥有四大关键竞争优势，包括一、从配方开发向上集成自建原料合成能力；二、创建本土材料供应链策略联盟；三、快速回应及高学习曲线；四、优异的品质管控及自主设计制程技术，已抢占与国际材料大厂竞争的有利位置。
产能规划方面，詹文雄指出，目前是龙潭厂做材料开发、高雄厂一期负责纯化及合成、台南厂做配方，而扩建的“高雄厂二期”预计今年底完工，预计2025年获得验证后，2026年初将可正式量产，届时总产能将可满足2纳米量产后最大需求。
詹文雄强调，新应材未来将持续投入半导体微影制程特化材料开发技术，期望提供客户高品质且多样的产品，目前除以光阻周边特化材料为发展基础外，已成功开发DUV光阻，可应用半导体微影制程及光学组件制程，有望成为本土第一家半导体光阻供应商。
新应材目前资本额为8.22亿元，2023年净利为3亿1,837万元，每股盈余（EPS）3.91元；而2024年前三季净利为6亿2,979万元，年增133%，其中半导体营收占比已超过78%，并持续增长。
（首图来源：科技新报）
