外媒报道，GPU大厂英伟达 (NVIDIA) 首席执行官黄仁勋日前在GTC 2025的问答时段中表示，依靠环绕式闸极 (GAA) 晶体管的下代制程，可能提升英伟达GPU性能达20%。黄仁勋指的下代GPU，应该是2028年Feynman了。

Tom′s Hardware报道，黄仁勋似乎淡化制程变化的重要性，强调摩尔定律放缓代表新制程密度、功率或效率方面，只会有20%左右改进。尽管先进制程改进值得欢迎，但不再有变革性。我们接受，但其他因素更重要，人工智能规模扩大，管理大量GPU的效率比每个GPU原始性能更重要。

传统英伟达通常不会先采台积电最新制程，而选择较成熟制程。英伟达以台积电4纳米生产消费级及数据中心Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等GPU，虽4纳米是5纳米改良版。英伟达下代GPU RuBin，采台积电3纳米制程，可能是N3P或定制化版。英伟达首款采GAA的产品应是2028年Feynman架构。

台积电预计首款采用GAA技术的N2节点制程将比N3E性能提高10%到15%，当然黄仁勋并没有提及会采用哪家的GAA制程技术。所以，理论上台积电N2制程技术，还是三星的类似技术，甚至是Intel 18A都有其可能姓。而且英伟达大概不会使用第一代制程技术，所以Feynman更可能会使用N2的改进版N2P，以提高性能、降低电阻并稳定电力输送。此外，台积电预计N2P和A16节点制程都在2027年投产，其A16节点制程将增加背面供电功能，性能会比N2提升8%至10%。

报道强调，如果英伟达在Feynman GPU上使用N2P或者A16节点制程，预计将会比采用N3P节点制程的Rubin GPU每瓦性能提高20%，实际性能提升可能更高。不过，考虑到目前AI计算的巨大需求，英伟达似乎更倾向追求最高性能，而不是达到最佳能耗。

(首图来源：视频截屏)