外媒报道,本月初,内存大厂美光(Micron)宣布正在交货全球首款采用10纳米级1γ制程技术的LPDDR5X内存产品。这属于第六代10纳米级1γ(1-gamma)DRAM内存产品,是美光首款采用EUV微影曝光技术打造的行动解决方案,进一步获得业界领先的容量密度优势。
对此,美光还利用包括下一代高K金属栅极技术在内的CMOS技术,提升了晶体管性能,达到更高的速率、更优化的设计,以及更小的芯片尺寸,为1γ DRAM节点制成技术带来功耗降低和性能扩展的双重优势。在此情况下,美光也进一步公布了采用1γ节点制成技术生产的LPDDR5X内存情况。
根据Tom's Hardware的报道,日前美光总裁兼首席执行官Sanjay Mehrotra在2025年第三季财报会议上,介绍了采用1γ节点制程技术的LPDDR5X内存情况,表示新产品性能非常出色,在良率的提升速度超过了第五代10纳米级1β(1-beta)DRAM节点制程技术的记录之后,预计本季内将完成几个关键的产品里程碑。
按照美光的说法,相较于1β DRAM节点制程技术生产的产品,新一代1γ DRAM节点制程的产品有望将DRAM功耗降低20%,同时性能提升15%,另外位元密度提高30%,带来非常显著的性能提升。一旦1γ DRAM节点制程技术的产品良率达到1β相近的水准,转化到生产上,预计将能进一步的大幅降低生产成本。
除了LPDDR5X以外,美光在更早之前还将1γ DRAM节点制程技术用于DDR5。Sanjay Mehrotra强调,美光将在整个DRAM产品线中导入1γ DRAM节点制程技术,未来还会用于GDDR7和针对数据中心的产品来使用。
值得注意的是,近期韩国媒体报道,三星电子行动(MX) 业务部Galaxy S25系列手机采美光LPDDR5X DRAM比例将高于自家半导体(DS)业务部,美光60%,三星DS业务部40%,与市场预估DS业务部取得多数订单相悖,显示三星供应链策略大调整,也代表着美光在技术的进步已经获得市场的肯定。
(首图来源:美光)