台积电高层透露，仍在评估未来制程是否要使用荷兰半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding N.V.）的尖端High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）微影设备。

路透社27日报道，这款尖端机台售价将近4亿美元、几乎是芯片厂当前最昂贵设备的两倍，芯片制造商目前还在评估，其曝光速度与分辨率的提升，是否真的值这个价。

被问到公司是否计划在即将推出的A14制程使用上述机台时，业务开发资深副总裁张晓强（Kevin Zhang）在记者会表示，台积电还没看到非用不可的理由。

张晓强说，“A14就算不用High-NA，性能也已相当强大。因此我们的技术团队会继续开发微缩（scaling）效益，设法延展Low-NA EUV（低数值孔径极紫外光）微影设备的寿命。”“只要团队能继续找到解决方案，我们显然没有使用High-NA的必要”。

相较之下，台积电对手英特尔（Intel Corp.）已计划在未来制程“14A”使用High-NA EUV机台，试图借此振兴芯片代工业务、提升对台积电的竞争力。不过，英特尔也表示，客户依旧可选择使用旧款且获得实证的技术。

（首图来源：shutterstock）