与其他半导体大厂不同，内存商美光 (Micron) 并不急于导入EUV (极紫外光)，所有量产都只用DUV (深紫外光) 生产，但最终还是无法避免用到EUV，暂定今年10纳米级1γ制程以EUV试产，2025年量产。
美光首席执行官Sanjay Mehrotra财报会议时说，EUV生产10纳米级1γ制程DRAM试产顺利，按计划2025年量产。美光正在日本广岛工厂开发EUV生产10纳米级1γ制程DRAM，也是首批1γ内存试产地。
美光不断改善EUV生产力，1α和1β制程强化EUV和非EUV良率和品质，除了EUV生产1γ和1δ，几年内打算发展3D DRAM架构，以及DRAM的High-NA EUV生产。
财报会议时美光公布截至5月30日第三季业绩，AI持续高速发展，除存储解决方案需求更攀升，美光数据中心营收如虎添翼外，总营收更达68.1亿美元，较2023年同期大幅增加81.6%，优于分析师预期66.7亿美元。预期截至8月底的第四季，预计营收74亿至78亿美元，区间中位数基本符合分析师预期75.8亿美元。
(首图来源：科技新报)
