ASML已经确认，即将出货最新款的EUV曝光机EXE:5200，相比上一代来说，性能更加强大，当然不会卖给中国厂商。
根据ASML官方说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV曝光机EXE:5000的改进款。它将拥有更高的芯片吞吐量，EXE:5000每小时可处理185片以上芯片，而EXE:5200的性能预计将更高。这意味着EXE:5200能更有效地支持2nm制程的量产。
早在之前，ASML就已宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200曝光机。这款曝光机具有高数值孔径，每小时可处理200多片芯片，是极紫外 (EUV) 大批量生产系统的一大进展。英特尔的这项举动，也显示出其在引入0.55 NA EUV技术上的决心。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均采用0.55数值孔径。相较于前代EUV曝光机的0.33数值孔径透镜，0.55 NA EUV在精度上有所提高，能为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。这项技术的突破，将有助于芯片制造商在2nm制程上取得更大的进展。
EUV 0.55 NA的设计目标是从2025年开始实现多个未来节点。这将是业界首次部署该技术，随后也将应用于类似密度的内存技术。随着EXE:5200的推出，ASML将持续推动半导体技术的发展，为更高端的芯片制造提供更强大的支持。
