在当今的科技生态系统中，ASML的曝光机扮演着至关重要的角色，尤其是在人工智能（AI）芯片的生产上。这家荷兰公司以其极紫外光（EUV）系统闻名，这些系统使得芯片厂能够印刷出越来越小且复杂的晶体管图案，这对于高性能的AI加速器和内存芯片至关重要。根据彭博社的报道，ASML的技术几乎在现代AI芯片行业中形成垄断地位，使得它成为欧洲最有价值的公司。

ASML的EUV技术能够在最先进的逻辑和内存节点中使用，这是因为它能印刷出够小的特征，让数十亿个晶体管能在单一芯片上集成，进而提升AI工作负载的性能和能效。这些机器的运行原理是通过将激光射入熔融的锡滴中，产生等离子体，进而发射出EUV光子，这些光子再通过镜面光学系统聚焦，将电路图案投影到涂有光刻胶的硅芯片上。

EUV技术的引入使得芯片的特征尺寸变得更小，这直接转化为更高的晶体管密度和每次操作的能耗降低，这对于训练和推理工作负载来说是至关重要的。ASML的高数值孔径（High-NA）EUV平台进一步提升了分辨率，为未来的2纳米逻辑节点铺平了道路，这被许多行业分析师和投资者视为下一代AI芯片的关键。

然而，ASML的EUV供应有限，这使得最先进的AI芯片的生产能力受到机器可用性、长交货期和复杂集成的限制。这种情况赋予了ASML在顶级AI半导体供应链中巨大的影响力。高单价和有限的竞争使得ASML在半导体生态系统中拥有强大的定价权和战略重要性，这引发了投资者对ASML增长的乐观预期，但也突显了如高数值孔径的推出延迟和潜在竞争技术（如纳米压印）可能对前景造成的风险。

尽管EUV技术备受瞩目，ASML仍然出货许多深紫外光（DUV）系统，行业向新EUV/高数值孔径节点的转型是逐步进行的。芯片厂在选择不同芯片产品的制程节点时，会平衡成本、良率成熟度和需求。ASML在研发和与主要芯片厂的合作上投入巨资，但高数值孔径的全面采用时间表仍然是影响行业下一次性能飞跃的关键变量。

（首图来源：ASML）