Canon采用“纳米压印”（Nano-imprint Lithography，NIL）技术的微影设备首度进行出货，对象为美国半导体联盟“Texas Institute for Electronics”（TIE）。NIL微影设备可用来生产5纳米（nm）芯片，且经过改良、将可进一步用来生产2纳米芯片。而Canon表示，目标3-5年内、每年卖出十几台。
Canon 26日发布新闻稿宣布，采用“NIL”技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备“FPA-1200NZ2C”将在当日出货给位于美国德州的半导体联盟“TIE”。此为Canon宣布在2023年10月开始销售NIL微影设备后首度进行出货。
TIE设立于2021年、是由德州大学奥斯丁分校支持成立的半导体联盟，由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成，而TIE将使用NIL微影设备研发、试产先进半导体。
据Canon指出，NIL微影设备可用来生产5纳米逻辑芯片，且经由改良、期待可进一步用来生产2纳米产品。
日经新闻报道，Canon光学设备业务本部副本部长岩本和德26日受访表示，“目标在3-5年内、每年卖出十几台”。
有别于现行的微影设备须借由曝光、将电路图案烧在芯片上，NIL技术则是可像印章一样，直接将图案压印在芯片上，因可一次性就形成电路，缩短制程时间、更省电。Canon在10年前就和日本光罩厂大日本印刷（DNP）、铠侠（当时为东芝）携手研发NIL技术。
（首图来源：Canon）
