台积电即将于16日举行今年首场说明会，供应链传出，半导体微影设备制造龙头艾司摩尔（ASML）首席执行官富凯（Christophe Fouquet）近期将再度率公司高层来台拜访台积电与关键供应商。
业界人士预期，这次除了例行讨论的EUV（极紫外光）设备发展及下时代机台相关规划外，美国新政府上台后的政策方向，也将成为重点讨论议题。
ASML监事会于2024年4月股东大会上提名Christophe Fouquet（法籍，1973年生）为ASML新任首席执行官兼总裁。2024年元月说明会前夕，当时尚未正式上任首席执行官的Christophe Fouquet就与多名高层一同访台，与台积电董座暨总裁魏哲家、各部门主管紧密沟通。
事实上，ASML高层每年都有亚洲拜访客户行程，仅2020年因防疫措施而未来台，去年开春首月就立即拜访重要大客户台积电，今年当然不例外。业界认为，这次ASML高层将分别与台积电主要高端主管、关键供应商会面，就产品技术、制程规划、业务合作进行全面讨论。其中，高数值孔径极紫外（High-NA EUV）微影曝光机的导入进程、美国新政府政策等，将会是重中之重。
根据ASML公开消息，新一代High-NA EUV设备已于2023年底开始陆续出货，产能预计每小时可曝光超过185片芯片，将支持2纳米以下逻辑芯片及具有相似晶体管密度的内存芯片量产。据悉，该机台售价超过3亿欧元，由英特尔最早采用，三星也规划在今年取得第一台机台。
台积电自7+纳米开始导入EUV设备，之后的5纳米、3纳米则是全制程采用，去年已取得首套设备进行试用。业界人士表示，台积电最快会在A14P小量采购High-NA EUV曝光机、进行练兵，并于A10制程进入大规模采用，稳居ASML的最大客户。
（首图来源：ASML）
