全球半导体产业的目光，近日聚焦在曝光机龙头艾司摩尔（ASML）的一项重大进展。ASML正式宣布，旗下最新、性能最强的曝光机“第二代High NA EUV”— 型号EXE:5200— 已经成功出货。这款堪称半导体制造核心的设备，不仅象征着芯片微缩技术的再次突破，更预示着2纳米甚至未来更先进制程的量产时代即将来临。而首批获得这项顶尖技术的，正是英特尔。
曝光机在半导体制造过程中扮演着举足轻重的角色，它利用光学原理将电路图案蚀刻到芯片上，是决定芯片制程精细度的关键。EXE:5200作为ASML初代High NA EUV曝光机EXE:5000的升级版，在多项技术规格上都有显著提升。最引人瞩目的是其更高的芯片处理量，相较于EXE:5000每小时可处理185片以上芯片的速度，EXE:5200能更有效地提高生产效率，为2纳米制程的商业化量产提供强大支持。
此外，EXE:5200与其前身EXE:5000都搭载了0.55的数值孔径（Numerical Aperture），这比前一代EUV曝光机的0.33数值孔径透镜有着更高的精度。这意味着曝光功能够实现更精细的分辨率，进而刻画出更微小的晶体管结构，这对于追求极致性能和低功耗的先进芯片来说至关重要。ASML表示，EUV 0.55 NA的设计目标是从2025年开始，逐步实现多个未来技术节点的生产，这将是业界首度应用此技术，未来也将扩展到内存等其他领域。
这款顶尖曝光机的售价也相当惊人，每台售价大约新台币134亿元，足见其技术含量与稀缺性。然而，这类高精密设备的出口并非仅仅是市场供需问题。ASML作为全球曝光机市场的主导者，其产品销售受到严格的国际出口管制，特别是针对中国。这不仅是商业考量，更涉及到复杂的地缘政治与国家安全因素。
